機器利用可能 本部

印刷する

RIE装置

最終更新日2024年10月8日

• 

用途

耐プラズマ試験、アッシング、基板表面処理、ドライエッチング

仕様

放電方式：平行平板
チャンバー温度範囲：温度制御不可
最大基板寸法:直径8インチ（直径200mm）
高周波電源:13.56MHz 実用最大250W（装置最大300W）
ガス種と流量(Max.)：
SF₆ 100sccm
CF₄ 40sccm
Ar 140sccm
O₂ 90sccm
チャンバー圧力:2.0Pa から 200.0Paまで
真空度:制御範囲 20Pa から 100Pa まで（到達真空度 5×10^-3Pa台）

機器概要

分類

N：半導体製造・MEMS加工

担当部署

電気技術グループ

導入年度

2011

型番

RIE-10NRT

製造者

サムコ株式会社

対応試験規格

備考

設備はクリーンルーム内にあります。
装置を汚す恐れのある試料を導入する場合には、別途直径8インチシリコンウエハまたは石英基板をご用意願います。

【依頼試験について】
一部試験条件によっては対応できない場合があります。
一日の試験連続時間は最長8時間とし、8時間以上の場合は8時間以降は翌日とさせていただきます。
原則として、試験開始（試験品投入）時、及び試験終了（試験品取り出し）時には、御来所いただきます。

【MEMS関連設備】
以下のウェブページに記載の関連設備をご参照ください。
https://www.iri-tokyo.jp/site/electronics/mems.html

料金表

設備利用	試験項目	項目コード	適用料金（税込）
			中小	一般
機器利用	（6）ドライエッチング装置 RIE装置 [1時間につき]	S91621	1,700円	3,370円
依頼試験	（5）性能試験 耐プラズマ試験 平行平板型 [1時間につき]	T315511	8,460円	16,920円
依頼試験	（5）性能試験 耐プラズマ試験 平行平板型（同一試験の追加） [1時間につき]	T315512	1,760円	3,530円

03-5530-2560