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マスクレス露光装置
印刷用ページを表示する 更新日：2021年8月5日更新
- 分類
- N：半導体製造・MEMS加工
- 対象
- 電気・電子
- 仕様
露光方式：DMDを用いた反射投影露光（ステップ式）
最大描画面積：100mm×100mm
最小画素：1μm×1μm
露光画素数：1024×768ピクセル（XGA）
露光範囲：1.024mm×0.768mm
光源：波長405nm LED
オートフォーカス範囲：±200μm
試料寸法：最大φ4インチ、または□100mm以下、厚み1.8mm以下
データ形式：DXFまたはGDS 2 ※要事前確認- 用途
- フォトリソグラフィ、マスク作製、グレースケール露光
- 製造者
- 株式会社ナノシステムソリューソンズ
- 型番
- DL-1000GS/TS
- 導入年度
- 2011
- 設置場所
- 本部
- グループ
- 電気技術グループ
- 試験規格対応
- 備考
(1)注意点
- 設備はクリーンルーム内にあるため、発塵の恐れがある試料や汚染されている試料の持ち込みはできません。
- i線(365nm)レジストは感光できないのでご注意ください。
- CADデータの内容によっては2レイヤーに分割する必要が生じます。
- 1ショットよりも大きいパターンでは、グレースケール露光の際にパターンのつなぎ部分が目立つ可能性があります。
(2)露光以外のリソグラフィ関連設備について
- スピンコータ
（http://www.iri-tokyo.jp/setsubi/ele-h29-spin-coater.html） - スピン現像機
(https://www.iri-tokyo.jp/setsubi/ele-spindevelopment.html) - ディップ現像
※ビーカーに注いだ現像液によるディップ方式も可能です。
※弊センター所有の現像液（NMD-3/TMAH 2.38%）の使用をご希望の際は、別途お申し付けください。
(3)その他（機器利用指導料、機器調整準備費)
- 初めてご利用の際は職員から操作方法についての指導および、実験で使用するCADの事前読み込み、変換の確認について、装置の使用料とは別に機器利用指導料および、機器調整準備費が必要ですので、予めご了承ください。
(http://www.iri-tokyo.jp/kiki/index.php?no=0)
| 設備利用 | 分類番号 | 試験項目 | 項目コード | 中小料金 | 一般料金 |
|---|---|---|---|---|---|
| 機器利用 | 9.9. | マスクレス露光装置 [1時間につき] | S91911 | 2,450円 | 5,120円 |
| 機器利用 | 0.1.1. | 機器利用指導 [30分につき] | M11 | 1,130円 | 2,260円 |
| 機器利用 | 0.1.2. | 機器調整準備 [30分につき] | M12 | 1,130円 | 2,260円 |
- 設備・機器に関してのご質問、依頼試験・機器利用のご予定等は、設備場所をご確認のうえ、事業所 連絡先の電話番号にご連絡ください。
- ご利用方法・ご利用料金は各ページにてご確認下さい。依頼試験のページを見る 機器利用のページを見る
- 代表的な試験の料金を表示しています。詳しくは試験担当者にお問い合わせください。
- 企業規模、業種によって料金が異なります。適用料金、支払方法は適用料金の分類をご覧ください。
