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マスクレス露光装置
印刷用ページを表示する 更新日：2024年4月15日更新
- 分類
- N：半導体製造・MEMS加工
- 対象
- 電気・電子
- 仕様
露光方式：DMDを用いた反射投影露光（ステップ式によるショット繫ぎ合わせ）
最大描画面積：100mm×100mm
最小画素：1μm×1μm
露光画素数：1024×768ピクセル（XGA）
1ショットの露光範囲：1.024mm×0.768mm
光源：波長405nm LED（※単波長）
オートフォーカス範囲：±200μm
試料寸法：最大φ4インチ、または□100mm以下、厚さ4mm以下
データ形式：DXFまたはGDS 2 CADデータを読み込んで直描が可能- 用途
- フォトリソグラフィによるレジストの微細パターニング（フォトマスク、微細電極、マイクロ流路、マイクロレンズ等の試作・加工）
- 製造者
- 株式会社ナノシステムソリューソンズ
- 型番
- DL-1000GS/TS
- 導入年度
- 2011
- 設置場所
- 本部
- グループ
- 電気技術グループ
- 試験規格対応
- 備考
・CAD で設計したパターンを基板に直接投影できる露光装置です。
・フォトマスクが不要なため、 研究開発や少量小面積試作においてスループットが向上します。
・重ね合わせ露光(X,Y,θアライメント)、グレースケール露光機能(露光量を256階調でパターニング)も利用可能です。
・設備はクリーンルームにあります。【加工事例】
（参考）レジスト加工事例【MEMS関連設備】
以下のウェブページに記載の関連設備をご参照ください。
/site/electronics/mems.html/
| 設備利用 | 分類番号 | 試験項目 | 項目コード | 中小料金 | 一般料金 |
|---|---|---|---|---|---|
| 機器利用 | 9.9. | マスクレス露光装置 [1時間につき] | S91911 | 2,450円 | 5,120円 |
| 機器利用 | 0.1.1. | 機器利用指導 [30分につき] | M11 | 1,130円 | 2,260円 |
| 機器利用 | 0.1.2. | 機器調整準備 [30分につき] | M12 | 1,130円 | 2,260円 |
- 設備・機器に関してのご質問、依頼試験・機器利用のご予定等は、設備場所をご確認のうえ、事業所 連絡先の電話番号にご連絡ください。
- ご利用方法・ご利用料金は各ページにてご確認下さい。依頼試験のページを見る 機器利用のページを見る
- 代表的な試験の料金を表示しています。詳しくは試験担当者にお問い合わせください。
- 企業規模、業種によって料金が異なります。適用料金、支払方法は適用料金の分類をご覧ください。
（外部リンク）
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