機器利用可能 本部

印刷する

両面マスクアライナ

最終更新日2024年8月29日

• 

用途

フォトリソグラフィ

仕様

露光方式：コンタクト（密着）露光、プロキシミティ（近接）露光
光源：超高圧水銀灯
マスク寸法：2.5インチ×2.5インチ、4インチ×4インチ、5インチ×5インチ
試料最大寸法：直径4インチ、厚み約3mm
観察方式：表面および裏面観察
重ね合わせ精度：5μm
実用解像度：2μm
ドーズ量：5mJ/cm² から 2.5J/cm² 程度（水銀灯の状態に応じて変わります）

機器概要

分類

N：半導体製造・MEMS加工

担当部署

電気技術グループ

導入年度

2004

型番

PEM-800

製造者

ユニオン光学

対応試験規格

備考

設備はクリーンルーム内にあります。
2012年3月城南支所ナノテクセンターより移設。
観察用顕微鏡の作動範囲制限のため、アライメントマーク位置に制約があります。
5インチ×5インチは露光のみ可能で、ベークや現像等の付随する工程には対応できません。

【MEMS関連設備】
以下のウェブページに記載の関連設備をご参照ください。
/research/field/mems/

料金表

設備利用	試験項目	項目コード	適用料金（税込）
			中小	一般
機器利用	（8）紫外線露光装置 両面マスクアライナ [1時間につき]	S91811	960円	1,920円

03-5530-2560