機器利用可能 本部
ナノインプリント装置
最終更新日2024年8月29日
用途
ナノインプリント
仕様
常用使用最高温度:650℃
最大ワークサイズ:直径6インチ
標準ワーク保持:真空吸着(ただし、直径120mm以上のワーク)
荷重力:最大 50kN、最小 100N
真空機構:到達真空度300Pa
機器概要
- 分類
- N:半導体製造・MEMS加工
- 担当部署
- 電気技術グループ
- 導入年度
- 2011
- 型番
- X-300BV-TS
- 製造者
- SCIVAX株式会社
- 対応試験規格
- 備考
設備はクリーンルーム内にあります。
直径120mm以下の試料・モールドは真空吸着できないため、離型を手作業で行う必要があります。
ガラス成形を行う場合には加熱・冷却に時間がかかりますのでご注意ください。【MEMS関連設備】
以下のウェブページに記載の関連設備をご参照ください。
/research/field/mems/
料金表
設備利用 | 試験項目 | 項目コード | 適用料金(税込) | |
---|---|---|---|---|
中小 | 一般 | |||
機器利用 | (14)ナノインプリント ※ライセンス制度対象機器 [1時間につき] | S92511 | 1,640円 | 3,360円 |