機器利用可能 本部

ナノインプリント装置

最終更新日2024年8月29日

用途

ナノインプリント

仕様

常用使用最高温度:650℃
最大ワークサイズ:直径6インチ
標準ワーク保持:真空吸着(ただし、直径120mm以上のワーク)
荷重力:最大 50kN、最小 100N
真空機構:到達真空度300Pa

機器概要

分類
N:半導体製造・MEMS加工
担当部署
電気技術グループ
導入年度
2011
型番
X-300BV-TS
製造者
SCIVAX株式会社
対応試験規格
備考

ライセンス制度対象機器

設備はクリーンルーム内にあります。
直径120mm以下の試料・モールドは真空吸着できないため、離型を手作業で行う必要があります。
ガラス成形を行う場合には加熱・冷却に時間がかかりますのでご注意ください。

【MEMS関連設備】
以下のウェブページに記載の関連設備をご参照ください。
/research/field/mems/

料金表

設備利用

試験項目項目コード 適用料金(税込)

中小一般
機器利用(14)ナノインプリント ※ライセンス制度対象機器 [1時間につき] S925111,640円3,360円

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