機器利用可能 本部

印刷する

マスクレス露光装置

最終更新日2024年10月8日

• 

用途

フォトリソグラフィによるレジストの微細パターニング（フォトマスク、微細電極、マイクロ流路、マイクロレンズ等の試作・加工）

仕様

露光方式：DMDを用いた反射投影露光（ステップ式によるショット繋ぎ合わせ）
最大描画面積：100mm×100mm
最小画素：1μm×1μm
露光画素数：1024×768ピクセル（XGA）
1ショットの露光範囲：1.024mm×0.768mm
光源：波長405nm LED（※単波長）
オートフォーカス範囲：±200μm
試料寸法：最大φ4インチ、または□100mm以下、厚さ4mm以下
データ形式：DXFまたはGDS 2 CADデータを読み込んで直描が可能

機器概要

分類

N：半導体製造・MEMS加工

担当部署

電気技術グループ

導入年度

2011

型番

DL-1000GS/TS

製造者

株式会社ナノシステムソリューソンズ

対応試験規格

備考

・CAD で設計したパターンを基板に直接投影できる露光装置です。
・フォトマスクが不要なため、 研究開発や少量小面積試作においてスループットが向上します。
・重ね合わせ露光(X,Y,θアライメント)、グレースケール露光機能(露光量を256階調でパターニング)も利用可能です。
・設備はクリーンルームにあります。

【加工事例】
（参考）レジスト加工事例[PDF]

【MEMS関連設備】
以下のウェブページに記載の関連設備をご参照ください。
/research/field/mems/

料金表

設備利用	試験項目	項目コード	適用料金（税込）
			中小	一般
機器利用	（9）マスクレス露光装置 [1時間につき]	S91911	2,450円	5,120円
機器利用	（1）機器利用指導 [30分につき]	M11	1,130円	2,260円
機器利用	（1）機器利用準備 [30分につき]	M12	1,130円	2,260円

03-5530-2560