本文
ナノインプリント装置
印刷用ページを表示する 更新日:2021年8月5日更新
- 分類
- N:半導体製造・MEMS加工
- 対象
- 仕様
常用使用最高温度:650℃
最大ワークサイズ:直径6インチ
標準ワーク保持:真空吸着(ただし、直径120mm以上のワーク)
荷重力:最大 50kN、最小 100N
真空機構:到達真空度300Pa- 用途
- ナノインプリント
- 製造者
- SCIVAX株式会社
- 型番
- X-300BV-TS
- 導入年度
- 2011
- 設置場所
- 本部
- グループ
- 電気技術グループ
- 試験規格対応
- 備考
設備はクリーンルーム内にあります。
直径120mm以下の試料・モールドは真空吸着できないため、離型を手作業で行う必要があります。
ガラス成形を行う場合には加熱・冷却に時間がかかりますのでご注意ください。
設備利用 | 分類番号 | 試験項目 | 項目コード | 中小料金 | 一般料金 |
---|---|---|---|---|---|
機器利用 | 9.14. | ナノインプリント (※ライセンス制度対象機器)[1時間につき] | S92511 | 1,640円 | 3,250円 |
- 設備・機器に関してのご質問、依頼試験・機器利用のご予定等は、設備場所をご確認のうえ、事業所 連絡先の電話番号にご連絡ください。
- ご利用方法・ご利用料金は各ページにてご確認下さい。依頼試験のページを見る 機器利用のページを見る
- 代表的な試験の料金を表示しています。詳しくは試験担当者にお問い合わせください。
- 企業規模、業種によって料金が異なります。適用料金、支払方法は適用料金の分類をご覧ください。