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ナノインプリント装置

印刷用ページを表示する 更新日:2016年12月19日更新
設備利用
機器利用
分類
N:半導体製造・MEMS加工
対象
 
仕様

常用使用最高温度:650℃
最大ワークサイズ:直径6インチ
標準ワーク保持:真空吸着(ただし、直径120mm以上のワーク)
荷重力:最大 50kN、最小 100N
真空機構:到達真空度300Pa

用途
ナノインプリント
製造者
SCIVAX株式会社
型番
X-300BV-TS
導入年度
2011
設置場所
本部
グループ
電気電子技術グループ
試験規格対応
備考

ライセンス制度対象機器

設備はクリーンルーム内にあります。
直径120mm以下の試料・モールドは真空吸着できないため、離型を手作業で行う必要があります。
ガラス成形を行う場合には加熱・冷却に時間がかかりますのでご注意ください。

設備利用料金表
設備利用 分類番号 試験項目 項目コード 中小料金 一般料金
機器利用 18.10. ナノインプリント(ライセンス制度対象機器)  [1時間につき] JA1 1,640円 3,180円

ナノインプリント装置

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  • ご利用方法・ご利用料金は各ページにてご確認下さい。依頼試験のページを見る 機器利用のページを見る
  • 代表的な試験の料金を表示しています。詳しくは試験担当者にお問い合わせください。
  • 企業規模、業種によって料金が異なります。適用料金、支払方法は適用料金の分類をご覧ください。

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