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ナノインプリント装置
印刷用ページを表示する 更新日：2021年8月5日更新
- 分類
- N：半導体製造・MEMS加工
- 対象
- 仕様
常用使用最高温度：650℃
最大ワークサイズ：直径6インチ
標準ワーク保持：真空吸着（ただし、直径120mm以上のワーク）
荷重力：最大 50kN、最小 100N
真空機構：到達真空度300Pa- 用途
- ナノインプリント
- 製造者
- SCIVAX株式会社
- 型番
- X-300BV-TS
- 導入年度
- 2011
- 設置場所
- 本部
- グループ
- 電気技術グループ
- 試験規格対応
- 備考
設備はクリーンルーム内にあります。
直径120mm以下の試料・モールドは真空吸着できないため、離型を手作業で行う必要があります。
ガラス成形を行う場合には加熱・冷却に時間がかかりますのでご注意ください。
| 設備利用 | 分類番号 | 試験項目 | 項目コード | 中小料金 | 一般料金 |
|---|---|---|---|---|---|
| 機器利用 | 9.14. | ナノインプリント （※ライセンス制度対象機器）[1時間につき] | S92511 | 1,640円 | 3,250円 |
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- 企業規模、業種によって料金が異なります。適用料金、支払方法は適用料金の分類をご覧ください。
