機器利用可能 本部
ターゲット断面試料調整装置
最終更新日2024年8月29日
用途
試料断面の鏡面研磨
仕様
実体顕微鏡倍率:9.2から147.2倍
左右移動量:50mm
回転数:300から20,000rpm
研磨送り速度:0.025から0.5mm/s
前進ステップ:0.5、1、10、100μm
潤滑液滴下量:2から20mL/min
ラッピングシート:15、9、6、3、1、0.5μm
ダイヤモンドディスクカッター:30mmφ
機器概要
- 分類
- C:顕微鏡:その他
- 担当部署
- 電気技術グループ
- 導入年度
- 2011
- 型番
- EM TXP
- 製造者
- ライカマイクロシステムズ
- 対応試験規格
- 備考
お客様ご自身で操作可能な機器利用としてご利用いただけます。
操作方法が分からない方は担当職員にご相談ください。【MEMS関連設備】
以下のウェブページに記載の関連設備をご参照ください。
/research/field/mems/
料金表
設備利用 | 試験項目 | 項目コード | 適用料金(税込) | |
---|---|---|---|---|
中小 | 一般 | |||
機器利用 | (4)ターゲット断面試料調整装置 [1時間につき] | S51411 | 1,260円 | 2,420円 |
機器利用 | (4)ターゲット断面試料調整装置 <消耗品> [1枚につき] | S5142S | 520円 | 520円 |