機器利用可能 本部

ターゲット断面試料調整装置

最終更新日2024年8月29日

用途

試料断面の鏡面研磨

仕様

実体顕微鏡倍率:9.2から147.2倍
左右移動量:50mm
回転数:300から20,000rpm
研磨送り速度:0.025から0.5mm/s
前進ステップ:0.5、1、10、100μm
潤滑液滴下量:2から20mL/min
ラッピングシート:15、9、6、3、1、0.5μm
ダイヤモンドディスクカッター:30mmφ

機器概要

分類
C:顕微鏡:その他
担当部署
電気技術グループ
導入年度
2011
型番
EM TXP
製造者
ライカマイクロシステムズ
対応試験規格
備考

お客様ご自身で操作可能な機器利用としてご利用いただけます。
操作方法が分からない方は担当職員にご相談ください。

【MEMS関連設備】
以下のウェブページに記載の関連設備をご参照ください。
/research/field/mems/

料金表

設備利用

試験項目項目コード 適用料金(税込)

中小一般
機器利用(4)ターゲット断面試料調整装置 [1時間につき] S514111,260円2,420円
機器利用(4)ターゲット断面試料調整装置 <消耗品> [1枚につき] S5142S520円520円

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