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English 機器利用可能
本部
本部フラットミリング加工装置
最終更新日2024年8月29日
用途
試料表面の研磨
仕様
イオン加速電圧：2から6kV
イオンビーム径：φ4mm
ミリングスピード：3μm/h
最大搭載試料サイズ：φ50mm/ 20.5mm（厚さ）
試料移動範囲：高さ0から10mm、偏心量±4mm、チルト0から90°
試料回転速度：15rpm
機器概要
- 分類
- C：顕微鏡：その他
- 担当部署
- 電気技術グループ
- 導入年度
- 2011
- 型番
- SVM-730
- 製造者
- サンユー電子
- 対応試験規格
- 備考
お客様ご自身で操作可能な機器利用としてご利用いただけます。
操作方法が分からない方は担当職員にご相談ください。【MEMS関連設備】
以下のウェブページに記載の関連設備をご参照ください。
/research/field/mems/
料金表
設備利用'%3e%3cpath%20id='パス_322'%20data-name='パス%20322'%20d='M8,6.666A1.821,1.821,0,0,1,9.943,5H10.5a1.821,1.821,0,0,1,1.943,1.666,1.666,1.666,0,0,1-1.11,1.666,2.313,2.313,0,0,0-1.11,2.221'%20transform='translate(-8%20-5)'%20fill='none'%20stroke='%23324eb3'%20stroke-linecap='round'%20stroke-linejoin='round'%20stroke-width='1.5'/%3e%3cpath%20id='パス_323'%20data-name='パス%20323'%20d='M12,19v.006'%20transform='translate(-9.779%20-11.226)'%20fill='none'%20stroke='%23324eb3'%20stroke-linecap='round'%20stroke-linejoin='round'%20stroke-width='1.5'/%3e%3c/g%3e%3cg%20id='楕円形_100'%20data-name='楕円形%20100'%20transform='translate(2%202)'%20fill='none'%20stroke='%23324eb3'%20stroke-width='1.5'%3e%3ccircle%20cx='10'%20cy='10'%20r='10'%20stroke='none'/%3e%3ccircle%20cx='10'%20cy='10'%20r='9.25'%20fill='none'/%3e%3c/g%3e%3c/svg%3e){kind=small} | 試験項目 | 項目コード | 適用料金（税込） | |
|---|---|---|---|---|
| 中小 | 一般 | |||
| 機器利用 | （12）試料作製用機器 フラットミリング加工装置 [1時間につき] | S32361 | 420円 | 840円 |
03-5530-2560
