クロスセクションポリッシャ

最終更新日2024年8月29日

用途

金属、セラミックス、プラスチック等の光学・電子顕微鏡観察用断面加工

仕様

イオン加速電圧：2から6kV
イオンビーム径：500μm以上(半値幅)
ミリングスピード：100μm/h以上(6kV）
最大搭載試料サイズ：11mm（幅）×10mm（長さ）×2mm（厚さ）
試料移動範囲：X軸±10mm、Y軸±3mm
試料加工スイング角：±30°

機器概要

備考

お客様ご自身で操作可能な機器利用としてご利用いただけます。
操作方法が分からない方は担当職員にご相談ください。

【MEMS関連設備】
以下のウェブページに記載の関連設備をご参照ください。
/research/field/mems/

設備利用	試験項目	項目コード	適用料金（税込）
設備利用	試験項目	項目コード	中小	一般
機器利用	（12）試料作製用機器クロスセクションポリッシャ [1時間につき]	S32351	1,790円	2,790円