【オンデマンド配信】電子線リソグラフィによるナノパターン描画～ナノスケールの加工をお考えの方へ～

最終更新日：2026年1月22日

申込締切 2026年2月27日(金曜日) 23時59分

開催日: 2026年3月10日(火曜日)から
2026年3月19日(木曜日)まで

時間: 開催期間内であればいつでもご視聴いただけます。

参加費(税込): 2,000円

会場: オンデマンド配信

開催案内: 開催案内【PDF】

技術セミナー・講習会にお申し込む際には、事前に技術支援事業ご利用約款の第1章(総論)、第5章(技術セミナー・講習会)及び第7章(技術セミナー・講習会等のオンラインでの配信)をご確認ください。

開催概要

ナノスケールの微細な構造体を加工する際、試作開発段階では電子線リソグラフィによるパターニング技術が広く利用されています。基礎編として、リソグラフィ技術を利用した微細加工の概要、電子線描画装置を用いたナノスケールのパターニングに関する基礎知識を解説します。応用編として、電子線リソグラフィ技術を実際に活用する際に必要となるノウハウについて、具体的なアプリケーション応用事例の紹介や、電子線描画装置用パターン（CADデータ）の設計手法、所望のナノスケール構造体を得るために最適な装置仕様（スペック）や描画条件を選定するための知識を解説します。
電子線リソグラフィによるナノスケール微細加工をご検討中の方や、電子線リソグラフィ技術について理解を深めたい方のお申込みをお待ちしております。配信期間中は繰り返しの視聴が可能です。

募集要項

応募資格: 原則として、日本の法人の従業員、個人事業主または創業を予定している個人

定員: 20名

申し込み方法: Web申込フォームに所定事項をご記入の上、お申し込みください。

受講の可否: 受講予定者には、請求書およびコンビニ払込書を郵送いたします。定員などの関係で受講をお断りする場合、電話または電子メールでご連絡いたします。

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お問い合わせ先

このセミナーに関するお問い合わせは、下記までご連絡ください。

地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター技術振興室　技術セミナー係

〒135-0064 東京都江東区青海2-4-10
電話: 03-5530-2308
メール: kenshu(at)iri-tokyo.jp　※ (at)を＠に置き換えてください