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局在表面プラズモン共鳴(LSPR)チップのナノインプリントによる作製方法とセンサへの応用
2021年度
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局在表面プラズモン共鳴(LSPR)チップのナノインプリントによる作製方法とセンサへの応用
最終更新日：2024年7月31日
PDF資料
局在表面プラズモン共鳴(LSPR)チップのナノインプリントによる作製方法とセンサへの応用
研究者情報
担当者
瀧本悠貴
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'%3e%3cpath%20id='パス_332'%20data-name='パス%20332'%20d='M4,5h8.375'%20transform='translate(-4%20-3.804)'%20fill='none'%20stroke='%23324eb3'%20stroke-linecap='round'%20stroke-linejoin='round'%20stroke-width='1.5'/%3e%3cpath%20id='パス_333'%20data-name='パス%20333'%20d='M7,4c0,5.8,0,8.375.6,9.571'%20transform='translate(-3.411%20-4)'%20fill='none'%20stroke='%23324eb3'%20stroke-linecap='round'%20stroke-linejoin='round'%20stroke-width='1.5'/%3e%3cpath%20id='パス_334'%20data-name='パス%20334'%20d='M11.178,8.6c0,2.735-2.393,5.384-4.187,5.384A2.855,2.855,0,0,1,4,11.589Q4,8,7.589,8c2.393,0,5.982.682,5.982,3.418a3.75,3.75,0,0,1-2.393,3.76'%20transform='translate(-4%20-3.214)'%20fill='none'%20stroke='%23324eb3'%20stroke-linecap='round'%20stroke-linejoin='round'%20stroke-width='1.5'/%3e%3cpath%20id='パス_335'%20data-name='パス%20335'%20d='M12,21.767,16.786,11l4.786,10.767'%20transform='translate(-2.429%20-2.625)'%20fill='none'%20stroke='%23324eb3'%20stroke-linecap='round'%20stroke-linejoin='round'%20stroke-width='1.5'/%3e%3cpath%20id='パス_336'%20data-name='パス%20336'%20d='M20.318,18H12.9'%20transform='translate(-2.252%20-1.251)'%20fill='none'%20stroke='%23324eb3'%20stroke-linecap='round'%20stroke-linejoin='round'%20stroke-width='1.5'/%3e%3c/g%3e%3c/svg%3e){kind=small}
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