本部

X線光電子分光分析装置[プロセス技術G]

最終更新日2025年2月6日

X線光電子分光分析装置

用途

試料の極表面(数nm)に存在する元素の種類やその化学結合状態が判別できます。
また、深さ方向の元素分布を知ることができます。

仕様

X線スポットサイズ:7.5µmから200µmまで 
エッチング:アルゴンイオン銃 
試料サイズ:
 ① W35×D35×H20mm以内(試料重量 149gまで)
 ② W75×D75×H12mm以内(試料重量 71gまで)
①または②を満たすサイズの試料のみ対応可能です

機器概要

分類
A:分析・評価:機器分析
担当部署
プロセス技術グループ
導入年度
2024
型番
PHI Genesis
製造者
アルバック・ファイ株式会社
対応試験規格
備考

料金表

設備利用

試験項目項目コード 適用料金(税込)

中小一般
依頼試験(22)エックス線光電子分光分析装置によるもの ワイドスキャン測定 [1測定につき] T63411117,900円34,950円
依頼試験(22)エックス線光電子分光分析装置によるもの ナロースキャン測定 [1試料1時間につき] T63421118,950円35,060円
依頼試験(22)エックス線光電子分光分析装置によるもの ナロースキャン測定 (同一試料の追加) [1時間につき] T6342126,140円12,280円
依頼試験(22)エックス線光電子分光分析装置によるもの 深さ方向分析 [1試料1時間につき] T63431122,060円40,530円
依頼試験(22)エックス線光電子分光分析装置によるもの 深さ方向分析 (同一試料の追加) [1時間につき] T6343126,140円12,280円
依頼試験(22)エックス線光電子分光分析装置によるもの 面分析又は線分析 [1試料1時間につき] T63441118,950円34,970円
依頼試験(22)エックス線光電子分光分析装置によるもの 面分析又は線分析 (同一試料の追加) [1時間につき] T6344127,260円14,540円

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