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English 
本部断面イオンミリング装置（クロスセクションポリッシャ）
最終更新日2024年10月8日
用途
金属、セラミックス、プラスチック等の光学・電子顕微鏡観察用断面加工
仕様
イオン加速電圧：2から6kV
イオンビーム径：500μm以上(半値幅)
ミリングスピード：100μm/h以上(6kV）
最大搭載試料サイズ：11mm（幅）×8mm（奥行）×2mm（厚さ）
試料移動範囲：X軸±3mm、Y軸±3mm
機器概要
- 分類
- C：顕微鏡：走査電子顕微鏡
- 担当部署
- 計測分析技術グループ
- 導入年度
- 2011
- 型番
- SM-09010
- 製造者
- 日本電子
- 対応試験規格
- 備考
料金表
設備利用'%3e%3cpath%20id='パス_322'%20data-name='パス%20322'%20d='M8,6.666A1.821,1.821,0,0,1,9.943,5H10.5a1.821,1.821,0,0,1,1.943,1.666,1.666,1.666,0,0,1-1.11,1.666,2.313,2.313,0,0,0-1.11,2.221'%20transform='translate(-8%20-5)'%20fill='none'%20stroke='%23324eb3'%20stroke-linecap='round'%20stroke-linejoin='round'%20stroke-width='1.5'/%3e%3cpath%20id='パス_323'%20data-name='パス%20323'%20d='M12,19v.006'%20transform='translate(-9.779%20-11.226)'%20fill='none'%20stroke='%23324eb3'%20stroke-linecap='round'%20stroke-linejoin='round'%20stroke-width='1.5'/%3e%3c/g%3e%3cg%20id='楕円形_100'%20data-name='楕円形%20100'%20transform='translate(2%202)'%20fill='none'%20stroke='%23324eb3'%20stroke-width='1.5'%3e%3ccircle%20cx='10'%20cy='10'%20r='10'%20stroke='none'/%3e%3ccircle%20cx='10'%20cy='10'%20r='9.25'%20fill='none'/%3e%3c/g%3e%3c/svg%3e){kind=small} | 試験項目 | 項目コード | 適用料金（税込） | |
|---|---|---|---|---|
| 中小 | 一般 | |||
| 依頼試験 | （5）化学分析等のための事前の処置 断面イオンミリング加工によるもの [1箇所1時間につき] | T115C1S | 27,900円 | 51,070円 |
| 依頼試験 | （5）化学分析等のための事前の処置 断面イオンミリング加工によるもの （同一箇所の追加） [1時間につき] | T115C2S | 140円 | 280円 |
03-5530-2646
