集束イオンビーム - 走査電子顕微鏡(FIB-SEM)複合装置
最終更新日2024年9月4日

用途
集束イオンビームによる表面微細加工、断面加工、デポジション(炭素、白金) 走査電子顕微鏡による像観察・写真撮影 エネルギー分散形X線分光器による定性分析
仕様
Gaイオン銃、Arイオン銃、ショットキー電界放出電子銃、エネルギー分散形X線分光器付属
試料サイズ:直径150 mm、高さ10 mmまで
機器概要
- 分類
- C:顕微鏡:走査電子顕微鏡
- 担当部署
- 計測分析技術グループ
- 導入年度
- 2011
- 型番
- XVision 200TB
- 製造者
- エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
- 対応試験規格
- 備考
料金表
設備利用 | 試験項目 | 項目コード | 適用料金(税込) | |
---|---|---|---|---|
中小 | 一般 | |||
依頼試験 | (20)走査電子顕微鏡によるもの 像の観察 [1試料につき] | T632111 | 12,460円 | 18,100円 |
依頼試験 | (20)走査電子顕微鏡によるもの 写真撮影 [1撮影につき] | T632121 | 2,890円 | 4,410円 |
依頼試験 | (20)走査電子顕微鏡によるもの 定性分析 エネルギー分散型分光器によるもの [1測定点につき] | T632211 | 9,100円 | 13,610円 |
依頼試験 | (20)走査電子顕微鏡によるもの 線分析又は面分析 エネルギー分散型分光器によるもの [1測定につき] | T632311 | 14,960円 | 26,000円 |
依頼試験 | (20)走査電子顕微鏡によるもの 試料作製 集束イオンビームによる断面加工 [1箇所1時間につき] | T63241S | 15,970円 | 31,950円 |
依頼試験 | (20)走査電子顕微鏡によるもの 試料作製 集束イオンビームによる断面加工(同一箇所の追加) [1時間につき] | T63242S | 9,680円 | 19,370円 |
依頼試験 | (21)透過電子顕微鏡によるもの 試料作製 集束イオンビームによる薄片試料の作製 [1箇所1時間につき] | T63342S | 28,290円 | 48,660円 |
依頼試験 | (21)透過電子顕微鏡によるもの 試料作製 集束イオンビームによる薄片試料の作製(同一箇所の追加) [1時間につき] | T63343S | 13,580円 | 27,160円 |