【オンデマンド配信】電子線リソグラフィによるナノパターン描画～ナノスケールの加工をお考えの方へ～

最終更新日：2026年5月25日

申込締切 2026年6月16日(火曜日) 23時59分

開催日: 2026年6月30日(火曜日)から
2026年7月13日(月曜日)まで

時間: 開催期間内であればいつでもご視聴いただけます。

参加費(税込): 2,000円

会場: オンデマンド配信

開催案内: 開催案内【PDF】

お申し込む際には、事前に以下のご利用約款をご確認ください。
技術セミナー・講習会及び課題解決型研修事業ご利用約款[PDF]

開催概要

ナノスケールの微細な構造体を加工する際、試作開発段階では電子線リソグラフィによるパターニング技術が広く利用されています。前半では、リソグラフィ技術を利用した微細加工の概要、電子線描画装置を用いたナノスケールのパターニングに関する基礎知識を解説します。後半では、電子線リソグラフィ技術を実際に活用する際に必要となるノウハウについて、具体的なアプリケーション応用事例の紹介や、電子線描画装置用パターン（CADデータ）の設計手法、所望のナノスケール構造体を得るために最適な装置仕様（スペック）や描画条件を選定するための知識を解説します。電子線リソグラフィによるナノスケール微細加工をご検討中の方や、電子線リソグラフィ技術について理解を深めたい方のお申込みをお待ちしております。
※本配信の内容は、昨年度に配信した同タイトルと同様です。

募集要項

応募資格: ●原則、日本で設立登記された法人、個人事業主または創業を予定している個人 ●国の行政機関、地方公共団体、独立行政法人等その他これらに準ずる公的機関

定員: 20名

申し込み方法: Web申込フォームに所定事項をご記入の上、お申し込みください。

受講の可否: 受講予定者には、請求書およびコンビニ払込書を郵送いたします。定員などの関係で受講をお断りする場合、電話または電子メールでご連絡いたします。

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お問い合わせ先

このセミナーに関するお問い合わせは、下記までご連絡ください。

地方独立行政法人東京都立産業技術研究センターお客様支援室　技術セミナー係

〒135-0064 東京都江東区青海2-4-10
電話: 03-5530-2308
メール: kenshu(at)iri-tokyo.jp　※ (at)を＠に置き換えてください