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卓上型ランプ加熱装置

印刷用ページを表示する 更新日:2017年11月16日更新
設備利用
その他
分類
M:加工機・造形機:加工機
対象
ガラス・セラミック
 
仕様

温度範囲: RT(室温)から1000℃
昇温速度: 45℃から50℃/sec
試料サイズ: 20mm角
シール方式: Oリングシール
装置サイズ: W360×D355×H179

用途
エレクトロニクス材料/無機材料/複合材料の熱処理
製造者
アドバンス理工株式会社
型番
MILA-5000-PN
導入年度
2017
設置場所
本部
グループ
先端材料開発セクター
試験規格対応
備考

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卓上型ランプ加熱装置

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