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両面マスクアライナ

印刷用ページを表示する 更新日:2021年8月5日更新
設備利用
機器利用
分類
N:半導体製造・MEMS加工
対象
 
仕様

露光方式:コンタクト(密着)露光、プロキシミティ(近接)露光
光源:超高圧水銀灯
マスク寸法:2.5インチ×2.5インチ、4インチ×4インチ、5インチ×5インチ
試料最大寸法:直径4インチ、厚み約3mm
観察方式:表面および裏面観察
重ね合わせ精度:5μm
実用解像度:2μm
ドーズ量:5mJ/cm2 から 2.5J/cm2 程度(水銀灯の状態に応じて変わります)

用途
フォトリソグラフィ
製造者
ユニオン光学
型番
PEM-800
導入年度
2004
設置場所
本部
グループ
電気技術グループ
試験規格対応
備考

設備はクリーンルーム内にあります。
2012年3月城南支所ナノテクセンターより移設。
観察用顕微鏡の作動範囲制限のため、アライメントマーク位置に制約があります。
5インチ×5インチは露光のみ可能で、ベークや現像等の付随する工程には対応できません。

設備利用料金表
設備利用 分類番号 試験項目 項目コード 中小料金 一般料金
機器利用 9.8. 紫外線露光装置 両面マスクアライナ [1時間につき] S91811 960円 1,920円

紫外線露光装置

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