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MEMS技術入門1リソグラフィ

印刷用ページを表示する 公開開始日時:2019年5月20日更新
状態
募集あるいは開催を終了した研修
種別
講習会
概要
『MEMS技術』の初心者の方へ
MEMSなどの電子産業においては、フォトリソグラフィを始めとして、電子ビームリソグラフィ(EBL)やナノインプリントリソグラフィ(NIL)などの微細パターン形成技術であるリソグラフィが用いられており、最先端の産業を支える根幹となっています。
本講習では、各種リソグラフィ技術について解説するとともに、実際の装置を用いてレジストを微細加工することで、リソグラフィ技術の理解を深めていきます。半導体・MEMS技術について知識を深めたい方や、都産技研のリソグラフィ設備の利用を検討している方の参加をお待ちしています。

MEMS技術入門2エッチングは、8月頃開催予定です。

開催日時

日付
2019年5月24日金曜日
時間
13時00分から17時00分
日数
1日

会場

会場
本部
住所
〒135-0064 東京都江東区青海2-4-10

募集要項

定員
4名
受講料(消費税込み)
3,000円
お申込・お問い合わせ
地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター 技術経営支援室 技術振興係 講習会・セミナー担当
〒135-0064東京都江東区青海2-4-10 
TEL:03-5530-2308 FAX:03-5530-2318
開催案内

開催案内 [PDFファイル/379KB]

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