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最終更新日:2010年8月19日

紫外線露光装置

仕様

2.5×2.5 インチマスク、4.0×4.0 インチマスク
コンタクト露光、プロキシミティ露光
光源: 超高圧水銀灯

用途

フォトリソグラフィ

製造者

ユニオン光学(株)

型番

PEM-1000

導入年度

1992

設置場所 西が丘
グループ エレクトロニクスグループ
設備利用  
 
 
備考

 

 

紫外線露出装置の写真

 

お問い合わせ

所属課室:経営企画部経営企画室

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