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RIE装置
印刷用ページを表示する 更新日：2024年4月15日更新
- 分類
- N：半導体製造・MEMS加工
- 対象
- 仕様
放電方式：平行平板
チャンバー温度範囲：温度制御不可
最大基板寸法:直径8インチ（直径200mm）
高周波電源:13.56MHz 実用最大250W（装置最大300W）
ガス種と流量(Max.)：
SF6_100sccm
CF4_40sccm
Ar_140sccm
O2_90sccm
チャンバー圧力:2.0Pa から 200.0Paまで
真空度:制御範囲 20Pa から 100Pa まで（到達真空度 5×10-3Pa台）- 用途
- 耐プラズマ試験、アッシング、基板表面処理、ドライエッチング
- 製造者
- サムコ株式会社
- 型番
- RIE-10NRT
- 導入年度
- 2011
- 設置場所
- 本部
- グループ
- 電気技術グループ
- 試験規格対応
- 備考
設備はクリーンルーム内にあります。
装置を汚す恐れのある試料を導入する場合には、別途直径8インチシリコンウエハまたは石英基板をご用意願います。【依頼試験について】
一部試験条件によっては対応できない場合があります。
一日の試験連続時間は最長8時間とし、8時間以上の場合は8時間以降は翌日とさせていただきます。
原則として、試験開始（試験品投入）時、及び試験終了（試験品取り出し）時には、御来所いただきます。【MEMS関連設備】
以下のウェブページに記載の関連設備をご参照ください。
/site/electronics/mems.html/
| 設備利用 | 分類番号 | 試験項目 | 項目コード | 中小料金 | 一般料金 |
|---|---|---|---|---|---|
| 依頼試験 | 3.1.5. | 性能試験 耐プラズマ試験 平行平板型 [1時間につき] | T315511 | 8,460円 | 16,920円 |
| 依頼試験 | 3.1.5. | 性能試験 耐プラズマ試験 平行平板型 （同一試験の追加) [1時間につき] | T315512 | 1,760円 | 3,530円 |
| 機器利用 | 9.6. | ドライエッチング装置 RIE装置 [1時間につき] | S91621 | 1,700円 | 3,370円 |
- 設備・機器に関してのご質問、依頼試験・機器利用のご予定等は、設備場所をご確認のうえ、事業所 連絡先の電話番号にご連絡ください。
- ご利用方法・ご利用料金は各ページにてご確認下さい。依頼試験のページを見る 機器利用のページを見る
- 代表的な試験の料金を表示しています。詳しくは試験担当者にお問い合わせください。
- 企業規模、業種によって料金が異なります。適用料金、支払方法は適用料金の分類をご覧ください。
