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電子ビーム描画装置
印刷用ページを表示する 更新日：2021年8月5日更新
- 分類
- N：半導体製造・MEMS加工
- 対象
- 仕様
加速電圧：25、50、75、100kV
最小線幅：8nm
試料サイズ：直径2インチ から 直径6インチ まで（ウエハ）、2.5インチ×2.5インチ から 5インチ×5インチ まで（マスク）
フィールド継ぎ精度：40nm- 用途
- 回折格子やモスアイなどナノメートル単位のパターニング
- 製造者
- 株式会社エリオニクス
- 型番
- ELS-7000Ac
- 導入年度
- 2011
- 設置場所
- 本部
- グループ
- 電気技術グループ
- 試験規格対応
- 備考
設備はクリーンルーム内にあります。
設備紹介
1.TIRI NEWS 2019年12月号応用事例
1.ナノインプリント金型
2.LSPRガスセンサ
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